Q150T Plus er optimeret til brug med en turbomolekylær pumpe, som giver et lavere vakuum ned til 5 x 10-5 mbar. Dette muliggør sputtering af oxiderende metaller, som har en lavere kornstørrelse, der er egnet til billeddannelse i høj opløsning. På samme måde giver lavere spredning mulighed for høj renhed, amorfe kulstoffilm med høj densitet.
